主要生産設備
| 設備 | 仕様 | 容量 |
|---|---|---|
| 反応缶（GL） | 常圧～60mmHg -15～140℃ （一部220℃迄可） |
50～10,000L |
| 反応缶（SUS） | 常圧～60mmHg -15～140℃ （一部220℃迄可） |
100～10,000L |
| 反応缶（QVF） | 常圧～20mmHg ～140℃ |
200L |
| オートクレープ缶（SUS） | ～9.5atm以下 ～120℃ |
3,000L、300L |
| 設備 | 仕様 | 容量 |
|---|---|---|
| 遠心分離機 | SUS | 42～48吋 |
| ヌッチェ | SUS、 GL、ハステロイ |
～2m2 |
| 密閉型ろ過乾燥機 | GL、SUS、 ハステロイ |
1.5m2～4m2 |
| 遊星運動形混合乾燥機 | SUS、常圧、真空 | 300L～2,000L |
| コニカル乾燥機 | SUS | 1,000L～4,000L |
| 箱型乾燥機 | 常圧、常温～90℃ | バット使用 |
| 設備 | 仕様 | 容量 |
|---|---|---|
| クリーンルーム | 10万／ft3 | 65m2、96m2 |
| 製氷機 | 6トン／日 | 貯槽：8トン |
| 液体窒素 | タンク | 20m3 |
| 排水処理 （最終活性炭着塔処理） |
活性汚泥法 1,300kgBOD/day | 原水槽：600m3 曝気槽：1,500m3 |
| 有害ガス除去 | 酸性ガス処理 アンモニアガス処理 |
～10トン |