展示会情報

第47回 2009分析展

展示会情報

会期 2009年9月2日(水)~4日(金)10:00~17:00
会場 幕張メッセ国際展示場
主催 社団法人 日本分析機器工業会
展示会ホームページ http://www.jaimashow.jp/2009/index.html

出展を終えて

非接触・非破壊による検査方法として広く用いられている分光分析技術で、ラボから現場、そしてプロセス管理での製品の品質向上に貢献する分光分析機器を出展いたしました。
ご来場ありがとうございました。

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